北京石久高研金属材料有限公司
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- 真空镀膜靶材 北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年， 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作，为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供*的靶材和蒸发料。
公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。
靶中毒的影响因素 影响靶中毒的因素主要是反应气体和溅射气体的比例，反应气体过量就会导致靶中毒。
反应溅射工艺进行过程中靶表面溅射沟道区域内出现被反应生成物覆盖或反应生成物被剥离而重新暴露金属表面此消彼长的过程。
如果化合物的生成速率大于化合物被剥离的速率，化合物覆盖面积增加。
在一定功率的情况下，参与化合物生成的反应气体量增加，化合物生成率增加。
如果反应气体量增加过度，化合物覆盖面积增加，如果不能及时调整反应气体流量， 锗靶供应商，化合物覆盖面积增加的速率得不到抑制，溅射沟道将进一步被化合物覆盖， 锗靶多少钱，当溅射靶被化合物全部覆盖的时候，靶完全中毒，在靶面上沉积一层化合金属膜。
使其很难被再次反应。
石久高研专注15年提供高纯金属靶材 *、高纯靶材欢迎来电咨询~~~ 溅射靶材 北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年， 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作， 锗靶报价，为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供*的靶材和蒸发料。
公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。
微电子硅片引线中，铜与铝相比较，铜具有更高的抗电迁移能力及更低的电阻率 ，能够满足半导体工艺在 0.25 μm以下的亚微米布线的需要 ， 锗靶，但却带来了其他的问题 。
铜与有机介质材料的附着强度低 并且容易发生反应 ，导致在使用过程中芯片的铜互连线被腐蚀而断路。
为了解决以上这些问题， 需要在铜与介质层之间设置阻挡层。
阻挡层材料一般采用高熔点 、高电阻率的金属及其化合物 。
因此要求阻挡层厚度小于 50 nm 且与铜及介质材料的附着性能良好。
铜互连和铝互连的阻挡层材料是不同的 ，需要研制新的靶材材料。
铜互连的阻挡层用靶材包括 Ta、 W、 TaSi 、WSi 等。
但是 Ta、W 都是难熔金属，制备相对困难 现在正在研究钼、铬等的合金作为替代材料 。
石久高研专注15年提供高纯金属靶材 *、高纯靶材欢迎来电咨询~~~ 金属靶材 北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年， 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作，为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供*的靶材和蒸发料。
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溅射靶材使用指南及注意事项 靶材清洁 靶材清洁的目的是去除靶材表面可能存在的灰尘或污垢。
金属靶材可以通过四步清洁， 第1步用在酒精中浸泡过的无绒软布清洁； 第2步与第1步类似用酒精清洁； 第3步用去离子水清洗。
在用去离子水清洗过后再将靶材放置在烘箱中以100摄氏度烘干30分钟。
氧化物及陶瓷靶材的清洗建洁用“无绒布”进行清洁。
第4步在*完有污垢的区域后，再用高压低水气的氩气冲洗靶材， 以除去所有可能在溅射系统中会造成起弧的杂质微粒. 靶材安装 靶材安装过程中**重要的注意事项是一定要确保在靶材和溅射*冷却壁之间建立很好的导热连接。
如果用冷却壁的翘曲程度严重或背板翘曲严重会造成靶材安装时发生开裂或弯曲，背靶到靶材的导热性能就会受到很大的影响，导致在溅射过程中热量无法散发**终会造成靶材开裂或脱靶 为确保足够的导热性，可以在阴**冷却壁与靶材之间加垫一层石墨纸。
请注意一定要仔细检查和明确所使用溅射*冷却壁的平整度，同时确保O型密封圈始终在位置上。
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